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這些有關PECVD系統(tǒng)的特點,您知道幾點?

時間:2024-08-02點擊次數(shù):2119
   PECVD系統(tǒng)就是為了使傳統(tǒng)的化學氣象沉積反應溫度降低,普通CVD設備的沉積溫度大多在900℃左右,而在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離,形成等離子體,利用等離子體的活性來促進反應,可以使化學氣相沉積的溫度降到400℃左右,所以這個系統(tǒng)稱為增強型化學氣相沉積系統(tǒng)。
  PECVD綜合了國內(nèi)大多數(shù)廠家的PECVD系統(tǒng)的優(yōu)點,觸摸屏集中一鍵控制,實驗證明此結構沉積速度快,成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂。而且控制部分采用了自主研發(fā)的實驗電爐AIO全自動智能控制系統(tǒng),使得操作更加簡便,功能更加強大。
  產(chǎn)品用途:
  PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。
  主要特點:
  1、智能氣路通斷:每路氣體均可定時通斷,自由切換,省時省力;
  2、射頻功率的定時控制:預先設定好功率的大小和打開與關閉的時間,自動運行;
  3、整機結構融為一體:整機長度只有1.5米,移動方便,避免分散組裝的困擾。
  4、AIO控制系統(tǒng):加熱控制、等離子射頻控制、氣體流量控制、真空系統(tǒng)控制集中于一個7英寸觸摸屏進行統(tǒng)一集中調(diào)節(jié)和操控,協(xié)調(diào)控制:成儀AIO控制系統(tǒng);
  5、爐膛移動速度可調(diào):根據(jù)實驗要求,用戶可設定爐膛左右移動的速度和距離,在沉積結束后爐膛可自動移開沉積區(qū),使樣品快速冷卻;
  6、管內(nèi)真空度自動平衡:管內(nèi)真空度實時監(jiān)測,自動平衡。PECVD工藝要求石英管內(nèi)真空度通常在0.1~100Pa之間,PECVD的AIO控制系統(tǒng)會通過真空泵的自動啟停來維持用戶設定的管內(nèi)真空度,使成膜效果達Z佳的均勻性。

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